黑體輻射源，俗稱黑體爐，在日常研究中，我們都稱其為黑體爐。嚴格意義上說，黑體是一個被定義為具有較高輻射發射率與吸收性能的理想物體，其特點主要是，一、可以吸收所有的輻射；二、在波長一定情況下，沒有物體能夠比同溫度的黑體發射更多的能量；三、黑體為一個漫發射體。人們使用黑體已經有70余年的時間了，我們用黑體為實驗室與野外測試提供輻射源作為標準參考依據。之后的一段時間，我們用黑體輻射源測定與檢驗熱成像儀的工作參數。在實際的應用中，近幾十年，黑體源作為參數依據，其整體性能并沒有出現太大的變化，但是紅外熱成像儀卻發展的很快。熱像儀的校準要求黑體從單個的形式變為陳列分布，從一維向二維變化。黑體再不是以單個的形式出現，而是一個陳列，并且靈敏度的要求也上了幾個數量級。 在黑體的幾個指標中，**重要的是黑體的發射率。為滿足黑體發射率的參數要求，我們會對黑體腔做特殊的安排，在此基礎上，黑體的均勻性指標也間接決定了。對于腔式的黑體輻射源，我們傾向于設計為一個閉合罩。當光子進入一個黑體空腔時，會在黑體腔內隨機反射，然后再從空腔中出來。經過實驗測得，當黑體的標稱表面發射率為0.9時，實際有效發射率可高達0.999。當然，腔式黑體可以滿足比較高的發射率，但是其只能作為一個點源輻射體；而面源黑體雖然可作為一個朗伯輻射體使用，但是其實際發射率就達不到太高的要求。武漢凱爾文一直在努力提升面源黑體輻射源的發射率和光譜均勻性指標。我們結合多年的經驗與同行研究成果發現，對黑體面源進行開微槽處理，可以使黑體面的發射率近于一個理想輻射源。我們經過實驗發現，在不同溫度條件下，與一般的面源黑體相比，開微槽的面源黑體輻射源在2~20納米光譜范圍內發射率要高很多。并且實際發射率的均勻性指標也提升了很多。實驗結果也表明，實際物體的發射率對溫度與波長都比較敏感。
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